اکسید سیلیکون

شرح

اکسید سیلیکون SiO₂,همچنین به عنوان دی اکسید سیلیکون، سیلیس و کوارتز شناخته می شود، یک پودر سفید و بی بو، CAS No.7631-86-9، نقطه ذوب 1710 درجه سانتی گراد، چگالی 2.2-2.6 گرم در میلی لیتر، کم محلول در آب، نوعی شاخص کم است. ماده ای که بیشتر از هر ترکیب کریستالی دیگری استفاده می شود.اکسید سیلیکون با خلوص بالا SiO₂ به پودر 99.999٪ میکرون 5N خالص می شود که از نظر ماهیت شیمیایی پایدار است.نانو ذرات اکسید سیلیکون SiO₂ 99.9٪ در اندازه 7 نانومتر و 20 نانومتر، پودر کروی بی‌مزه، بی‌مزه و بدون آلودگی است که دارای بسیاری از ویژگی‌های خاص مانند اثر اندازه کوانتومی، اثر سطحی، اثر تونل ماکرو کوانتومی است.اکسید سیلیکون SiO₂در شرکت وسترن مین متالز (SC) را می توان در اندازه پودر زیر میکرون مش 200+500 و نانو پودر 7 نانومتری یا 20 نانومتری در بسته بندی 25 کیلوگرمی در درام مقوایی با کیسه پلاستیکی داخل یا به عنوان مشخصات سفارشی به راه حل های عالی تحویل داد.

برنامه های کاربردی

اکسید سیلیکون با خلوص بالا SiO₂یا سیلیس یا کوارتز، پودر میکرون با خلوص 99.999 درصد، عمدتاً برای تولید شیشه نوری، شیشه کوارتز، فیبر نوری برای مخابرات، ابزار نوری، بوته czochralski، قطعات ماشین آلات کوارتزور، پوشش نوری و مواد پوشش فیلم نازک، قطعات الکترونیکی، روان کننده ها، استفاده می شود. عوامل ضد چسبندگی، و عامل ضد کف و غیره. SiO₂همچنین می تواند در پوشش های چند لایه برای آینه های لیزری، پوشش های ضد انعکاس، تقسیم کننده های پرتو و خازن های لایه نازک استفاده شود.نانو ذرات اکسید سیلیکون SiO₂99.9٪ برای تهیه کاتالیزور، فیلترها، دارو، مواد بسته بندی الکترونیکی، محیط مغناطیسی، کامپوزیت تقویت شده با فیبر، سرامیک، لوازم آرایشی، مواد ضد باکتری و غیره است.

اکنون پرس و جو

جزئیات

برچسب ها

مشخصات فنی

SiO₂

ظاهر	کریستال
وزن مولکولی	60.08
تراکم	2.648 گرم در سانتی متر³
نقطه ذوب	1600-1725 درجه سانتیگراد
شماره CAS	7631-86-9

خیر	مورد		مشخصات استاندارد
1	خلوص SiO₂≥		ناخالصی(حداکثر PCT یا PPM هر کدام)
2	3N	99.9٪	Ca/Mg/Na/Cu/Mn/Co/Pb/N/S 0.001، Fe/Ni/K 0.002	PCT %
	5N	99.999٪	Cr/Mn/Co/Sn/Na/Ni/Cu/V 0.5، Al/Fe/Pb/Ti/Mg 1.0	مجموع ≤10
3	اندازه		پودر 7 نانومتر، 20 نانومتر برای خلوص 3N، پودر -200+500meah برای خلوص 5N
4	بسته بندی		25 کیلوگرم در کیسه بافته شده یا درام مقوایی با کیسه پلاستیکی داخل

اکسید سیلیکون با خلوص بالا SiO₂99.999% 5N و نانو ذرات سیلیکون اکسید SiO₂99.9% 3N در شرکت Western Minmetals (SC) را می توان در اندازه پودر زیر میکرون مش 200+500 و نانو پودر 7 نانومتری یا 20 نانومتری در بسته بندی 25 کیلوگرمی در کیسه های بافته شده یا درام مقوایی با کیسه پلاستیکی داخل یا به عنوان مشخصات سفارشی تحویل داد. راه حل های کامل

اکسید سیلیکون با خلوص بالا SiO₂یا سیلیس یا کوارتز، پودر میکرون با خلوص 99.999٪ 5N، عمدتاً برای تولید شیشه نوری، شیشه کوارتز، فیبر نوری برای مخابرات، ابزار نوری، بوته czochralski، قطعات ماشین آلات کوارتزور، پوشش نوری و مواد پوشش لایه نازک، قطعات الکترونیکی، روان کننده استفاده می شود. ، عوامل ضد چسبندگی و مواد ضد کف و غیره. SiO₂همچنین می تواند در پوشش های چند لایه برای آینه های لیزری، پوشش های ضد انعکاس، فیلترها، تقسیم کننده های پرتو و خازن های لایه نازک استفاده شود.نانو ذرات اکسید سیلیکون SiO₂99.9% دقیقه، درجه نانو ذرات، برای تهیه کاتالیزور، فیلترها، دارو، مواد بسته بندی الکترونیکی، محیط مغناطیسی، کامپوزیت تقویت شده با فیبر، سرامیک، لوازم آرایشی، مواد ضد باکتری و رنگدانه و غیره است.